静電容量式タッチスクリーンでは、投影型製品の開発が本格化しています。第2章で説明したように、抵抗膜方式のタッチスクリーンとは異なります。透明導電性ガラスを用いない場合は、複数の透明導電性フィルムを貼り合わせて作られる。したがって、静電容量式タッチスクリーンの間に空気層がなく、界面の反射を大幅に低減することができ、それによって干渉縞およびグレアの問題を回避し、優れた光学性能を有する。この段階では、テキスト入力には適していませんが、多点入力操作を実現できます。
透明電極の電気量の変化を検出してタッチを実現する。透明電極は、複数の透明導電性フィルム同士を接着剤層を介して貼り合わせてなり、これを積層技術により完成させる。そのため、ITO膜とITO膜のない部分の可読性の違いを設計により排除することが特に重要である。一般的に、パターンパターンを形成した後は、ITO膜とITO膜のない部分の反射率や、透過と反射の色の違いを抑えることも重要です。無色化は、タッチスクリーンについても考慮する必要があります。ガラスの色に近づくためには、ヘイズを下げる必要があります。また、接着剤層積層工程が用いられるため、透明導電性と接着剤層の稠度を維持することも重要である。
アナログ抵抗膜方式タッチスクリーンは、テキスト入力を実現することができます。透明導電膜の面内抵抗の均一性は、文字を正しく入力する能力に大きく影響する。抵抗膜方式タッチスクリーンをシミュレートするために使用される表面抵抗は、一般に200〜10001V□である。タッチスクリーンの検出精度と消費電力を考慮すると、約500(1/□の抵抗値が最も理想的です。
ITO膜の製造は、主に物理蒸着におけるスパッタリングプロセスを介して行われる。スパッタ成膜は、真空装置内で真空放電により不活性ガスをイオン化し、電界の作用によりイオンを加速させてターゲットを衝突させ、打ち抜いたターゲット粒子を基板に飛ばして薄膜を形成する方法です。スパッタリングフィルムは、良好な均一性と長期的に安定した品質を有し、長期の大量生産に適している。抵抗値の均一性はアナログ抵抗膜方式のタッチスクリーンにとって特に重要であるため、スパッタ成膜はこの種の透明導電膜の作製に最も適している。
薄膜基板上のITOラインの抵抗は、一般的に3 x 1CT4ですか?1 x 10_311 • cm.薄膜基板の利点は、良好な柔軟性、薄さ、耐破損性、および低コストである。欠点は、許容温度範囲が小さく、ITO膜形成プロセスを制限することである。PETフィルムの許容温度は摂氏100度以上です。この温度で成膜されたITO膜の結晶性は良好ではなく、ITO膜の性能に直接影響する。上記の欠点を克服するために、低温アモルファスITO膜プロセスを開発し、その後、アニールプロセスを用いて再結晶させ、高性能ITO膜の製造を完了した。
